随着微电子等产品的超微细化，在微电子、超精密器件等产品的制造过程中，由短波长紫外线及其产生的臭氧对其产品的表面进行超精密清洗或改善其表面的接着性、附着性的干式光表面处理技术的实用化进展得很快。现在，需要提高成品率的半导体器件、液晶表元件、光学制品等制造中，紫外线UV和O₃臭氧并用的干式光表面处理技术已成不可缺少的技术手段。UV光清洗不受溶液表面张力的干扰，随着半导体微细化的深入，随着人们对环境要求的提高干式清洗也将逐步替代湿式的传统清洗技术。

湿式清洗与UV干式光清洗的优缺点比较

UV干式光清洗特点：

1、大气中处理，简单方便，环保无二次污染，无需加热、药液等处理。
2、清洁度极高，单分子层以下，可以得到从来处理方法难以想象的清洁度、接着性
3、国内独有的超高出力短波长紫外线光源，仅需短时间（秒单位）照射，发挥强大的处理能力，从实验室进入实用。
4、不对材料的表面产生损伤。
5、相对于湿式清洗或等离子清洗成本低。
6、没有液体表面张力的影响，超微细部的清洗容易。